我们常提到的IC技术有哪些呢？华通为您介绍

 我们常常在介绍IC刻字，IC打磨，IC丝印……那么什么是IC呢，其实IC就是指一种集成电路是采用半导体制作工艺，在一块较小的单晶硅片上制作上许多晶体管及电阻器、电容器等元器件，并按照多层布线或遂道布线的方法将元器件组合成完整的电子电路。IC在电路中用字母“IC”（也有用文字符号“N”等）表示。
广义上我们常说的IC是采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构；其中所有元件在结构上已组成一个整体，使电子元件向着微小型化、低功耗和高可靠性方面迈进了一大步。
IC产品可以按集成度高低分类
　　集成电路按集成度高低的不同可分为： 　　SSI 小规模集成电路 　　MSI 中规模集成电路 　　LSI 大规模集成电路　　VLSI 超大规模集成电路　ULSI 特大规模集成电路　GSI 巨大规模集成电路也被称作极大规模集成电路或超特大规模集成电路
 IC刻字中出现旋光现象不必惊慌，那是一种正常现象，对于旋光现象的物理原因，可解释为外加磁场使介质分子的磁矩定向排列，当一束线偏振光通过它时，分解为两个频率相同、初相位相同的两个圆偏振光，其中一个圆偏振光的电矢量是顺时针方向旋转的，称为右旋圆偏振光，而另一个圆偏振光是逆时针方向旋转的，称为左旋圆偏振光。
    这两个圆偏振光无相互作用地以两种略有不同的速度传播，它们通过厚度为L的介质之后产生的相位延迟，两圆偏振光之间存在一相位差，当它们通过介质之后，有合成为一线偏振光，其偏振方向相对于入射光旋转了一个角度。
    磁致旋光效应的旋转方向仅与磁场方向有关，而与光线传播方向的正逆无关，这是磁致旋光现象与晶体的自然旋光现象不同之处。光束往返通过自然旋光物质时，因旋转角相等方向而相互抵消，但通过磁光介质时，只要磁场方向不变，旋转角都朝一个方向增加。
    此现象表明磁致旋光效应是一个不可逆的光学过程，因而可利用来制成光学隔离器或单通光闸等器件。
   信息来源：IC刻字